Phenyl-bridged polysilsesquioxane positive and negative resist for electron beam lithography

BRIGO, LAURA;BRUSATIN, GIOVANNA
2012

2012
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11577/2531871
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? 0
  • Scopus 22
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? 20
  • OpenAlex ND
social impact