Vanadyl precursors used to modify the properties of vanadium oxide thin films obtained by chemical vapor deposition
BARRECA, DAVIDE;RIZZI, GIAN-ANDREA;TONDELLO, EUGENIO;
1999
File in questo prodotto:
File | Dimensione | Formato | |
---|---|---|---|
Vanadyl_Precursors_Used_to_Modify_the_Pr.pdf
embargo fino al 31/12/2029
Tipologia:
Published (publisher's version)
Licenza:
Accesso gratuito
Dimensione
539 kB
Formato
Adobe PDF
|
539 kB | Adobe PDF | Visualizza/Apri Richiedi una copia |
Pubblicazioni consigliate
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.