Suppression of boron diffusion by fluorine implantation in preamorphized silicon

DE SALVADOR, DAVIDE;NAPOLITANI, ENRICO;CARNERA, ALBERTO;
2004
2004
Silicon Front-End Junction Formation-Physics and Technology.
WOS:000224411300036
2-s2.0-5544224557
04.01 - Contributo in atti di convegno
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